산업
국가핵심 반도체 기술 유출 사건 피의자 2명
[마이데일리 = 이재훈 기자] 삼성전자가 4조3000억원을 투입해 개발한 반도체 기술을 빼돌려 중국 기업에 넘긴 삼성전자 전 임원 2명이 구속됐다.
서울경찰청 산업기술안보수사대는 10일 중국 반도체 제조업체 청두가오전(CHJS) 대표 A(66)씨와 공정설계실장 B(60)씨를 산업안전기술법 위반과 부정경쟁방지 및 영업비밀보호법 위반, 업무상 배임 혐의 등으로 구속 송치했다.
서울경찰청에 따르면 이들은 지난 2020년 9월께 중국 지방정부와 합작으로 반도체 제조업체 청두가오전을 설립, 국내 반도체 전문인력을 대거 이직시켜 국내 삼성전자의 20나노급 D램 메모리 반도체 공정단계별 핵심기술을 유출했다.
유출된 기술은 반도체 공정의 순서와 각 공정 주요 조건을 정리한 PRP(반도체 공정 종합 절차서), 수율·신뢰성·품질 등 반도체를 구성하는 요소들의 목표 스펙인 MTS(최종 목표 규격) 등 핵심 기술이다.
경찰은 이들이 삼성전자와 하이닉스반도체(현 SK하이닉스) 퇴사 후 외국에서 반도체 관련 회사를 설립해 컨설팅 사업을 하던 중 이같은 범행을 저지른 것으로 보고 있다.
이들이 빼돌린 삼성전자 18나노급 공정 개발비용은 약 2조3000억원, 20나노급 공정 개발 비용은 약 2조원에 달하는 등 피해기술의 경제적 가치는 약 4조3000억원에 달한다.
이재훈 기자 yes@mydaily.co.kr
- ⓒ마이데일리(www.mydaily.co.kr).
무단전재&재배포 금지 -
댓글
[ 300자 이내 / 현재: 0자 ]
현재 총 0개의 댓글이 있습니다.